環(huán)境控制的樣品制備離子束制備
最先進(jìn)的離子銑削和拋光系統(tǒng)，可提供可靠的高性能標(biāo)本準(zhǔn)備。它是緊湊的，精確的，并且始終如一地產(chǎn)生高質(zhì)量的透射電子顯微鏡標(biāo)本，具有各種材料的大電子透明區(qū)域。
MODEL 1051TEM 銑磨機(jī)
這是一款先進(jìn)的離子銑削和拋光系統(tǒng)，提供可靠、高性能的樣品制備。它能夠從多種材料中 consistently 制備出高質(zhì)量的透射電子顯微鏡（TEM）樣品，并具有大面積的電子透明區(qū)域。
Model 1051 TEM Mill 技術(shù)規(guī)格
離子源
· 兩個(gè) TrueFocus 離子源
· 可變能量操作（100 eV 至 10 kV）
· 束流密度高達(dá) 10 mA/cm2
· 銑削角度范圍：?15? 至 +10?
· 可選擇單離子源或雙離子源操作
· 獨(dú)立的離子源能量控制
· 手動(dòng)或電動(dòng)（可選）離子源角度調(diào)節(jié)
· 可調(diào)節(jié)的束斑尺寸
· 每個(gè)離子源配備法拉第杯，用于直接測(cè)量束流，支持針對(duì)特定應(yīng)用優(yōu)化和調(diào)整離子源參數(shù)
樣品夾持器
· 設(shè)計(jì)用于改進(jìn)樣品處理和熱性能，包括裝載站
· 夾持機(jī)制簡(jiǎn)化了樣品裝載，并支持雙面銑削至 0° 無(wú)陰影
· 樣品夾持器和裝載站具備 x-y 調(diào)節(jié)功能（可選）
樣品臺(tái)
· 樣品尺寸：直徑 3 mm，厚度 250 μm
· 360? 樣品旋轉(zhuǎn)，支持可變轉(zhuǎn)速和束流序列
· 樣品搖擺功能
· 磁編碼器提供絕對(duì)定位精度
MODEL 1051 TEM Mill
這是一款先進(jìn)的離子銑削和拋光系統(tǒng)，提供可靠、高性能的樣品制備。它能夠從多種材料中 consistently 制備出高質(zhì)量的透射電子顯微鏡（TEM）樣品，并具有大面積的電子透明區(qū)域。
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樣品冷卻（可選）
· 液氮傳導(dǎo)冷卻，配備集成杜瓦瓶和自動(dòng)溫度聯(lián)鎖
· 杜瓦瓶靠近儀器操作員，便于操作
· 可編程并維持從環(huán)境溫度到低溫的特定溫度
· 可選：
o 標(biāo)準(zhǔn)杜瓦瓶容量（3 至 5 小時(shí)低溫條件）
o 擴(kuò)展杜瓦瓶容量（12 小時(shí)以上低溫條件）
自動(dòng)終止
· 通過(guò)時(shí)間、溫度或激光光電探測(cè)器（可選）自動(dòng)終止
真空系統(tǒng)
· 渦輪分子拖曳泵和無(wú)油多級(jí)隔膜泵
· 配備冷陰極全量程真空計(jì)進(jìn)行真空檢測(cè)
· 真空或惰性氣體傳輸膠囊（可選），支持在真空或惰性氣體環(huán)境中傳輸或存儲(chǔ)樣品
工藝氣體
· 超高純氬氣（99.999%）；標(biāo)稱(chēng)輸送壓力為 15 psi
· 使用兩個(gè)質(zhì)量流量控制器實(shí)現(xiàn)自動(dòng)氣體控制
用戶(hù)界面
· 通過(guò) 10 英寸可調(diào)節(jié)觸摸屏控制儀器操作
· 堆棧燈指示器（可選），用于遠(yuǎn)程確定銑削操作狀態(tài)
顯微鏡（可選）
· 裝載鎖窗口可容納以下設(shè)備：
o 7 至 45 倍立體顯微鏡附件，用于直接觀察樣品
o 1,960 倍高倍顯微鏡和 CMOS（互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體）相機(jī)系統(tǒng)，用于特定位置的圖像采集和顯示
原位觀察/成像
· 使用立體顯微鏡或高倍顯微鏡時(shí)，可在銑削位置原位監(jiān)測(cè)樣品
· 觀察窗口配備可編程快門(mén)，防止濺射材料堆積，保持原位觀察能力
